难从仅露出的眉眼中看出一筹莫展的感觉。
翟达走上前去：「怎么了？」
刘波吓了一跳，转头看到翟达的胸牌，叹了口气道：「翟总，我们刚才完成了光源系统的测试，显示功率只有40瓦，直接曝光失败了。
翟达微微皱眉，40瓦不足设计功率的六分之一
设计额定功率是300瓦，最大功率能达到400瓦才对。
40瓦，都不够击穿光刻胶。
这个数量级肯定不是误差问题，而是比较棘手的情况。
翟达没有贸然提出建议，而是从在场所有工程师吸收了所有信息后道：「再测试一下，所有前置工序重复进行。」
数十名工程师开始重新进行准备，在巨大的「货柜」四周忙碌。
所有工序重复，可不是重新按一下开关这么简单，而是从头到尾每个部件的检测+测试。
过了一会儿，光刻机负责人周墨也来了，提问情况后也是一脸疑惑。
「奇怪光源系统的各个部件，都是初步组装检测后送过来的，而且昨晚我才带队测过前置工序，怎么会有这么大差距？」
翟达摇摇头：「目前还不清楚」
所谓光刻机，就是用光雕刻物质。
极紫外线光源的精度和强度，直接影响着光刻的性能，就好似雕塑者手中的是「钨钢刻刀」还是「萝卜刀」的区别一样。
这也堪称整个光刻机里最复杂的系统。
功率从300瓦骤降至40瓦，只是一个最终结果，背后的可能性可就太多了。
比如其中的反射镜，表面粗糙度要<20皮米（002纳米），相当于将地球当做一个表面，其上不能有超过一根头发丝大小的凸起。
这种精度的镜片，安装时手劲儿使大了，都可能使得光路偏移，导致最后接收到的光源强度骤降。
反射镜目前研究院还未突破，供应商是德国蔡司，他们只是在自己紧锣密鼓研发的同时，备货了足够满足数年需要的订单。
另外他们的激发系统，是自研的「雷射诱导强压电离」路线，即：将锡滴用雷射瞬间化为「气态云」，然后对「气态锡」施加强压放电，激发等离子体获取极紫外光。
由于「强磁场约束」会影响其他部件的运行，无法让「气态云」漂浮，所以整个系统是动态的，每一滴「锡」从落下—气化—激发，时序间隔要精确到纳秒级，如果时间精度不够，也可能整个系统错位，功